ISO 17331:2004/Amd 1:2010

Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy — Amendment 1

Analyse chimique des surfaces — Méthodes chimiques pour collecter les éléments analysés de tranches de silicium comme matériaux de référence pour l'analyse par spectroscopie de fluorescence X en réflexion totale (TXRF) — Amendement 1