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Norma
ISO 17331:2004

ISO 17331:2004

Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

Analyse chimique des surfaces — Méthodes chimiques pour collecter les éléments analysés de tranches de silicium comme matériaux de référence pour l'analyse par spectroscopie de fluorescence X en réflexion totale (TXRF)

Fecha:
2004-05-18 / Published
Comité:
ISO/TC 201 - Surface chemical analysis
Relación con otras normas ISO:

Es modificada por: ISO 17331:2004/Amd 1:2010

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