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Norma
UNE-EN 62047-25:2016 (Ratificada)

UNE-EN 62047-25:2016 (Ratificada)

Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 25: Tecnología de fabricación de MEMS basados en silicio. Método de medida de la resistencia al cizallamiento y al desprendimiento del área de micro unión. (Ratificada por la Asociación Española de Normalización en enero de 2017.)

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 25: Silicon based MEMS fabrication technology - Measurement method of pull-press and shearing strength of micro bonding area (Endorsed by Asociación Española de Normalización in January of 2017.)

Dispositifs à semiconducteurs - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 25: Technologie de fabrication de MEMS à base de silicium - Méthode de mesure de la résistance à la traction-compression et au cisaillement d'une micro zone de brasure (Entérinée par l'Asociación Española de Normalización en janvier 2017.)

Fecha ratificación:
2017-01-01
Equivalencias internacionales:

EN 62047-25:2016 (Idéntico)

IEC 62047-25:2016 (Idéntico)

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