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Norma
ISO 17109:2015

ISO 17109:2015

Surface chemical analysis -- Depth profiling -- Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films

Analyse chimique des surfaces -- Profilage d'épaisseur -- Méthode pour la détermination de la vitesse de pulvérisation lors du profilage d'épaisseur par pulvérisation en spectroscopie de photoélectrons par rayons X, spectroscopie d'électrons Auger et spectrométrie de masse des ions secondaires à l'aide de films minces multicouches

Fecha:
2015-07-28 / Vigente
Comité:
ISO/TC 201/SC 4 - Depth profiling

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