ISO 14701:2011

Surface chemical analysis — X-ray photoelectron spectroscopy — Measurement of silicon oxide thickness

Analyse chimique des surfaces — Spectroscopie de photoélectrons par rayons X — Mesurage de l'épaisseur d'oxyde de silicium

Fecha Anulación:

2011-08-02 / Withdrawn

ICS:

Comité:

ISO/TC 201/SC 7 - Electron spectroscopies

Relación con otras normas ISO:

Es anulada por: ISO 14701:2018

Esta norma está disponible en:

Formato digital

Ingles