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Norma
IEC 62047-3:2006

IEC 62047-3:2006

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 3: Thin film standard test piece for tensile testing

Dispositifs à semiconducteurs - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 3: Eprouvette d'essai normalisée en couche mince pour l'essai de traction

Fecha:
2006-08-15 /Vigente
Resumen (inglés):
Specifies a standard test piece, which is used to guarantee the propriety and accuracy of a tensile testing system for thin film materials with length and width under 1 mm and thickness under 10 m, which are main structural materials for microelectromechanical systems (MEMS), micromachines and similar devices. It is based on such a concept that a tensile testing system can be guaranteed in propriety and accuracy, when the measured tensile strengths of the standard test pieces, whose tensile strength is pre-determined, are within the designated range. It also specifies the test pieces to minimize characteristics deviation among the pieces.
Resumen (francés):
Cette norme internationale specifie une eprouvette d fessai normalisee, qui est utilisee pour garantir le bien-fonde et la precision du systeme d fessais de traction pour les materiaux en couche mince avec une longueur et une largeur inferieures a 1 mm et une epaisseur inferieure a 10 Êm, et qui sont des materiaux de structure principaux pour les systemes microelectromecaniques (MEMS), les micromachines et dispositifs analogues. Cette norme internationale repose sur un concept tel qu fun systeme d fessais de traction puisse etre garanti du point de vue du bien-fonde et de la precision, lorsque les resistances a la traction mesurees des eprouvettes d fessai normalisees, dont la resistance a la traction est predeterminee, se situent dans la plage designee. Elle specifie egalement les eprouvettes d fessai pour minimiser les ecarts de caracteristiques parmi les eprouvettes.

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