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Comité

Comité:

CTN 209/SC 76 - Equipos, instalaciones y sistemas láser y electro ópticos

Relaciones Internacionales:

ISO/TC 172/SC 9  Láser y sistemas electro-ópticos

IEC/TC 76  Seguridad de las radiaciones ópticas y material láser

CLC/TC 76  Seguridad de las radiaciones ópticas y material láser

CEN/CLC/WS MIRACLE 

CEN/TC 123  Láser y fotónica

Normas elaboradas por el comité: CTN 209/SC 76: 129

UNE-EN ISO 11151-2:2015

Estado: VIGENTE  /  2015-09-30

Láseres y equipos asociados a los láseres. Componentes ópticos normalizados. Parte 2: Componentes para el intervalo espectral infrarrojo. (ISO 11151-2:2015).

UNE-EN ISO 11252:2013

Estado: VIGENTE  /  2013-12-04

Láser y equipos relacionados con láser. Dispositivo láser. Requisitos mínimos para la documentación. (ISO 11252:2013).

UNE-EN ISO 11553-3:2013 (Ratificada)

Estado: VIGENTE  /  2013-05-01

Seguridad de las máquinas. Máquinas de procesamiento láser. Parte 3: Métodos de reducción del ruido y de medición del ruido para máquinas de procesamiento láser y dispositivos manuales portátiles y sus equipos auxiliares asociados (grado de precisión 2) (ISO 11553-3:2013) (Ratificada por AENOR en mayo de 2013.)

UNE-EN ISO 21254-1:2011 (Ratificada)

Estado: VIGENTE  /  2011-12-01

Láseres y equipos asociados a los láseres. Métodos de ensayo del umbral de daño producido por radiación láser. Parte 1: Definiciones y principios generales (ISO 21254-1:2011) (Ratificada por AENOR en diciembre de 2011.)

UNE-EN ISO 21254-2:2011 (Ratificada)

Estado: VIGENTE  /  2011-12-01

Láseres y equipos asociados a los láseres. Métodos de ensayo del umbral de daño producido por radiación láser. Parte 2: Determinación del umbral (ISO 21254-2:2011) (Ratificada por AENOR en diciembre de 2011.)

UNE-EN ISO 21254-3:2011 (Ratificada)

Estado: VIGENTE  /  2011-12-01

Láseres y equipos asociados a los láseres. Métodos de ensayo del umbral de daño producido por radiación láser. Parte 3: Evaluación de la capacidad para manejar la potencia (energía) láser (ISO 21254-3:2011) (Ratificada por AENOR en diciembre de 2011.)

UNE-EN 60825-4:2007/A1:2010

Estado: VIGENTE  /  2010-04-14

Seguridad de los productos láser. Parte 4: Sistemas de protección frente a la radiación láser.

UNE-EN ISO 11553-2:2009

Estado: VIGENTE  /  2009-11-11

Seguridad de las máquinas. Máquinas de procesamiento láser. Parte 2: Requisitos de seguridad para dispositivos manuales de procesamiento láser. (ISO 11553-2:2007)

UNE-EN ISO 13697:2007

Estado: VIGENTE  /  2007-04-25

Óptica y fotónica. Láseres y equipos asociados a los láseres. Métodos de ensayo para la reflectancia especular y la transmitancia regular de los componentes ópticos de un láser. (ISO 13697:2006)

UNE-EN ISO 15367-2:2005

Estado: VIGENTE  /  2005-09-14

Láseres y equipos asociados a los láseres. Métodos de ensayo para la determinación de la forma del frente de onda de un haz láser. Parte 2: Sensores Shack-Hartmann. (ISO 15367-2:2005)

UNE-EN ISO 11670:2004/AC:2005

Estado: VIGENTE  /  2005-03-23

Láseres y equipos asociados a los láseres. Métodos de ensayo de los parámetros del haz láser. Estabilidad posicional del haz. (ISO 11670:2003 /Cor.1:2004).

UNE-EN ISO 15367-1:2004

Estado: VIGENTE  /  2004-07-09

Láseres y equipos asociados a los láseres. Métodos de ensayo para la determinación de la forma del frente de onda de un haz láser. Parte 1: Terminología y aspectos fundamentales. (ISO 15367-1:2003)

UNE-EN ISO 11670:2004

Estado: VIGENTE  /  2004-04-16

Láseres y equipos asociados a los láseres. Métodos de ensayo de los parámetros del haz láser. Estabilidad posicional del haz (ISO 11670:2003).

UNE-EN ISO 17526:2004

Estado: VIGENTE  /  2004-02-20

Óptica e instrumentos ópticos. Láseres y equipos relacionados con láseres. Tiempo de vida de los láseres (ISO 17526:2003).

UNE-EN ISO 13695:2006

Estado: ANULADA  /  2025-01-01

Óptica y fotónica. Láseres y equipos asociados a los láseres. Métodos de ensayo para las características espectrales de los láseres. (ISO 13695:2004)

UNE-EN ISO 14880-2:2007

Estado: ANULADA  /  2025-01-01

Óptica y fotónica. Matriz de microlentes. Parte 2: Métodos de ensayo para las aberraciones del frente de onda. (ISO 14880-2:2006)

UNE-EN ISO 14880-3:2007

Estado: ANULADA  /  2024-12-01

Óptica y fotónica. Matriz de microlentes. Parte 3: Métodos de ensayo para las propiedades ópticas distintas a aberraciones del frente de onda. (ISO 14880-3:2005)

UNE-EN ISO 14880-4:2007

Estado: ANULADA  /  2024-12-01

Óptica y fotónica. Matriz de microlentes. Parte 4: Métodos de ensayo para las propiedades geométricas (ISO 14880-4:2006).

UNE-EN 60601-2-22:2013 (Ratificada)

Estado: ANULADA  /  2023-10-31

Equipos electromédicos. Parte 2-22: Requisitos particulares para la seguridad, incluyendo la aptitud para la función primordial, de los equipos láser quirúrgicos, terapéuticos y de diagnostico. (Ratificada por AENOR en abril de 2013.)

UNE-EN ISO 24013:2007

Estado: ANULADA  /  2023-08-01

Óptica y fotónica. Láseres y equipos relacionados. Medida del retardo de fase de los componentes ópticos para radiación láser polarizada. (ISO 24013:2006).